本文着眼于靶材产业链及企业格局的分析，认为有如下因素利好国内靶材企业的发展: 1、下游半导体及面板产业产能转移国内；2、进口靶材免税期年底到期；3、技术突破；4、国家扶持及进口替代。
溅射工艺属于物理气相沉积技术的一种，是制备电子薄膜材料的关键技术之一。在电子信息产业的发展过程中，金属薄膜的制备十分重要。溅射工艺利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，使固体表面的原子离开靶材并沉积 在基材表面，从而形成纳米（或微米）薄膜。被轰击的固体是溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。